Impression assistée par dépression pour substrats poreux (Brevet WO2021183123)

L’invention concerne un procédé d’impression sur un substrat poreux avec une imprimante comprenant : une zone d’impression ; un convoyeur destiné à recevoir un substrat poreux sur une zone de chargement et à déplacer le substrat poreux le long d’une direction de transport entre la zone d’impression et la zone de chargement ; un moteur d’impression positionné sur la zone d’impression pour éjecter un fluide d’impression vers le substrat poreux.

Le procédé comprend les étapes suivantes : éjection d’un fluide d’impression vers un côté avant du substrat poreux et, par un contrôleur, activation d’une source de vide de façon à exercer un vide sur un côté arrière du substrat poreux, lequel est le vide exercé pendant que le substrat poreux se trouve à l’intérieur de la zone d’impression.

Déposant(s) :  HEWLETT PACKARD DEVELOPMENT

Lien WIPO : https://patentscope.wipo.int/search/fr/detail.jsf?docId=WO2021183123

Date : 16/09/2021

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