Les textiles à fonction anti-UV sont intéressants pour de multiples applications. Cependant les revêtements anti-UV peuvent compromettre divers paramètres comme le confort, la blancheur, la brillance, la perméabilité à l’air, la ténacité, la douceur, entre autres.
Une équipe de chercheurs chinois propose de mettre en œuvre une technique de dépôt de TiO2 (dioxyde de titane) par couche atomique (ALD, Atomic Layer Deposition), pour apporter à un tissu de soie une fonction anti-UV sans les effets négatifs précédemment cités.
En opérant plusieurs cycles d’ALD, il est ainsi possible d’accroître les propriétés anti-UV, avec quelques incidences mineures sur certaines caractéristiques du tissu.
Serveur web : https://journals.sagepub.com/doi/abs/10.1177/0040517517729390
Date : 12/2018